オプトロニクス社は6月30日から7月2日の3日間、「OPIE’21」をパシフィコ横浜で開催する。同展はスマートフォンやインターネット、Withコロナ社会で求められる抗菌・抗ウィルス機能に加えSDGsやカーボンニュートラルへの対応、自動運転技術、量子技術や宇宙開発といった話題の技術など、様々な分野に活用される光技術が集まる国内最大級の展示会。
2年ぶりのリアル開催となる今回は注目の企画として、国立研究開発法人/新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）のプロジェクト「高輝度・高効率次世代レーザー技術開発」に参画する20法人による研究開発成果のデモや実際の加工サンプルを交え、最先端のレーザー技術を提案する。
無料聴講できるオープンセミナーでは「半導体産業×光・レーザー」をテーマに、実際の製造現場で活躍する光技術を紹介。基調講演では、世界最大の半導体露光装置メーカーであるオランダASMLのJan van Schoot 氏が登壇するほか、今後すべての産業が対応を求められるカーボンニュートラルへの光技術の応用を考える「カーボンニュートラルと光技術」、5G以降の通信のカギを握る「NICT（情報通信研究機構）の研究者が語る開発動向」などをテーマとしたセミナーも予定している。
2019年の開催時には405社・団体が出展し、１万6,709人が来場した。
■開催概要
「OPIE’21」
会期：2021年6月30日（水）～7月2日（金）
会場：パシフィコ横浜
構成展：「レーザーEXPO」、「レンズ設計・製造展」、「赤外・紫外応用技術展」、
「産業用カメラ＆アドバスド イマージングEXPO」、「宇宙・天文光学EXPO」、
「ポジショニングEXPO」
入場料： 無料（完全事前登録制）
